Báo cáo thị trường thiết bị photolithography năm 2025: Phân tích sâu về các động lực tăng trưởng, sự chuyển đổi công nghệ và động lực cạnh tranh. Khám phá các xu hướng chính, dự đoán và cơ hội chiến lược hình thành ngành công nghiệp.

• Tóm tắt điều hành & Tổng quan thị trường
• Các xu hướng công nghệ chính trong thiết bị photolithography (2025–2030)
• Cảnh quan cạnh tranh và các công ty hàng đầu
• Dự báo tăng trưởng thị trường và các dự đoán doanh thu (2025–2030)
• Phân tích thị trường khu vực: Bắc Mỹ, Châu Âu, Châu Á-Thái Bình Dương và các khu vực còn lại của thế giới
• Triển vọng tương lai: Các ứng dụng mới nổi và sự tiến hóa của ngành công nghiệp
• Thách thức, rủi ro và cơ hội chiến lược
• Nguồn & Tài liệu tham khảo

Tóm tắt điều hành & Tổng quan thị trường

Sản xuất thiết bị photolithography là một phân khúc quan trọng trong ngành công nghiệp chế tạo chip bán dẫn, cho phép tạo mẫu chính xác các mạch tích hợp trên các tấm silicon. Tính đến năm 2025, thị trường thiết bị photolithography toàn cầu đang trải qua sự tăng trưởng mạnh mẽ, được thúc đẩy bởi nhu cầu ngày càng tăng đối với các chip tiên tiến trong các lĩnh vực như trí tuệ nhân tạo, mạng 5G, điện tử ô tô và điện toán hiệu suất cao. Thị trường có đặc điểm là rào cản gia nhập cao, đầu tư R&D đáng kể và một cảnh quan cạnh tranh tập trung với sự thống trị của một vài người chơi chính.

Theo SEMI, thị trường thiết bị bán dẫn toàn cầu, bao gồm cả hệ thống photolithography, dự kiến sẽ vượt qua 120 tỷ đô la vào năm 2025, với photolithography chiếm một phần lớn nhờ vào sự phức tạp về công nghệ và tính nhạy bén về vốn. Sự chuyển đổi sang các nút quy trình nhỏ hơn (ví dụ, 5nm, 3nm và hơn nữa) đang thúc đẩy nhu cầu đối với các công cụ lithography thế hệ tiếp theo, đặc biệt là các hệ thống cực tím cực kỳ (EUV). Những hệ thống tiên tiến này là rất cần thiết để sản xuất các chip công nghệ cao và chủ yếu do một số nhà sản xuất hạn chế cung cấp.

ASML Holding vẫn là nhà lãnh đạo không thể tranh cãi trong lĩnh vực EUV photolithography, với các hệ thống của nó là không thể thiếu cho sản xuất chip tiên tiến. Các đối thủ quan trọng khác bao gồm Canon Inc. và Nikon Corporation, tập trung vào lithography cực tím sâu (DUV) và các ứng dụng chuyên biệt. Động lực cạnh tranh còn chịu tác động từ những căng thẳng thương mại Mỹ-Trung và các quy định xuất khẩu, có ảnh hưởng đến chuỗi cung ứng toàn cầu và khả năng tiếp cận công nghệ lithography tiên tiến, đặc biệt là tại Trung Quốc.

Về mặt khu vực, Châu Á-Thái Bình Dương tiếp tục thống trị nhu cầu thiết bị photolithography, dẫn đầu bởi các nhà máy chế biến lớn như TSMC và Samsung Electronics. Bắc Mỹ và Châu Âu cũng đóng vai trò quan trọng, vừa là những nhà đổi mới công nghệ vừa là những nơi sản xuất thiết bị chính. Thị trường dự kiến sẽ duy trì tỷ lệ tăng trưởng hàng năm (CAGR) từ 8-10% cho đến năm 2025, theo Gartner, phản ánh những khoản đầu tư liên tục vào mở rộng năng lực sản xuất bán dẫn và nâng cấp công nghệ.

Tóm lại, thị trường sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 được định hình bởi sự phát triển công nghệ nhanh chóng, yêu cầu vốn cao và những phức tạp về địa chính trị. Đường đi của sự tăng trưởng trong lĩnh vực này gắn liền với sự theo đuổi không ngừng của ngành công nghiệp bán dẫn về các chip nhỏ hơn, nhanh hơn và tiết kiệm năng lượng hơn, đảm bảo rằng sẽ tiếp tục có nhu cầu đối với các giải pháp photolithography tiên tiến.

Các xu hướng công nghệ chính trong thiết bị photolithography (2025–2030)

Ngành sản xuất thiết bị photolithography đang chuẩn bị cho sự chuyển mình mạnh mẽ trong giai đoạn 2025 đến 2030, được thúc đẩy bởi nhu cầu không ngừng về các thiết bị bán dẫn tiên tiến và xu hướng chuyển sang các nút quy trình dưới 2nm. Các xu hướng công nghệ chính đang định hình lại cảnh quan cạnh tranh, với những nhà sản xuất hàng đầu đầu tư mạnh mẽ vào nghiên cứu và phát triển để duy trì vị thế công nghệ dẫn đầu.

Một trong những xu hướng nổi bật nhất là sự phát triển và áp dụng nhanh chóng của các hệ thống lithography cực tím cực kỳ (EUV). Các nhà lãnh đạo thị trường như ASML Holding đang mở rộng sản xuất các công cụ EUV có độ mở số cao (NA), cho phép tạo mẫu tinh vi hơn và cải thiện năng suất cho các chip thế hệ tiếp theo. Sự chuyển sang EUV có độ mở số cao dự kiến sẽ tăng tốc vào năm 2025, với các dây chuyền thử nghiệm và các triển khai thương mại sớm hỗ trợ sản xuất logic và bộ nhớ tiên tiến. Sự chuyển dịch này đang thúc đẩy các nhà sản xuất thiết bị tinh chỉnh quang học, nguồn sáng và vật liệu nhạy sáng để đạt được thông lượng cao hơn và tỷ lệ khuyết tật thấp hơn.

Một xu hướng quan trọng khác là sự tích hợp của trí tuệ nhân tạo (AI) và học máy (ML) vào thiết bị photolithography. Các công ty đang tích hợp các tính năng điều khiển quy trình được điều khiển bởi AI và bảo trì dự đoán để tối ưu hóa hiệu suất của công cụ, giảm thời gian ngừng hoạt động và nâng cao độ chính xác của mẫu. Xu hướng số hóa này đặc biệt rõ nét trong các sản phẩm của Canon Inc. và Nikon Corporation, những công ty đang tận dụng phân tích dữ liệu để phân biệt các nền tảng photolithography của họ.

Bền vững và hiệu quả năng lượng cũng đang trở thành trọng tâm trong thiết kế thiết bị. Các nhà sản xuất đang phát triển các hệ thống tiêu thụ điện năng thấp hơn và cải thiện việc sử dụng tài nguyên, đáp ứng cả áp lực quy định và nhu cầu từ khách hàng đối với sản xuất bán dẫn thân thiện với môi trường. Những đổi mới bao gồm hệ thống làm mát tiên tiến, vật liệu có thể tái chế và các bước quy trình giảm thiểu sử dụng hóa chất.

Sự phát triển hợp tác đang gia tăng trong chuỗi cung ứng. Các nhà sản xuất thiết bị đang hợp tác với các nhà cung cấp vật liệu, nhà chế tạo chip và các hiệp hội nghiên cứu như imec để đồng phát triển các loại nhựa quang, lớp bảo vệ và giải pháp đo đạc được thiết kế riêng cho lithography tiên tiến. Phương pháp tiếp cận hệ sinh thái này rất quan trọng để vượt qua các nút thắt kỹ thuật và tăng tốc thời gian ra thị trường cho các thế hệ thiết bị mới.

Tóm lại, cảnh quan sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 được đặc trưng bởi sự thương mại hóa của EUV có độ mở số cao, sự đổ bộ của khả năng AI/ML, sự tập trung vào bền vững và sự hợp tác sâu rộng trong ngành. Những xu hướng này dự kiến sẽ xác định sự khác biệt cạnh tranh và hình thành đuờng đi của đổi mới trong ngành bán dẫn cho đến năm 2030.

Cảnh quan cạnh tranh và các công ty hàng đầu

Cảnh quan cạnh tranh của thị trường sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 được đặc trưng bởi các rào cản công nghệ cao, yêu cầu vốn đáng kể và một nhóm lãnh đạo toàn cầu tập trung. Ngành này bị thống trị bởi một số công ty, mỗi công ty khai thác công nghệ độc quyền và đầu tư R&D rộng rãi để duy trì vị thế trên thị trường.

ASML Holding NV vẫn là nhà lãnh đạo không thể tranh cãi trong lĩnh vực này, đặc biệt trong các hệ thống lithography cực tím cực kỳ (EUV), rất quan trọng cho sản xuất chip tại các nút bán dẫn tiên tiến (5nm và thấp hơn). Các hệ thống EUV của ASML được coi là không thể thay thế cho sản xuất chip tiên tiến, và tồn đọng đơn hàng của công ty tiếp tục tăng, được thúc đẩy bởi nhu cầu từ các nhà máy sản xuất và nhà sản xuất thiết bị tích hợp (IDM) hàng đầu trên toàn thế giới. Năm 2024, ASML báo cáo doanh thu kỷ lục, và sự thống trị của công ty dự kiến sẽ tiếp tục duy trì cho đến năm 2025 khi họ tăng năng lực sản xuất và giới thiệu các hệ thống EUV có độ mở số cao thế hệ tiếp theo.

Nikon Corporation và Canon Inc. là các đối thủ chính trong phân khúc lithography cực tím sâu (DUV). Cả hai công ty đều có sự hiện diện mạnh mẽ trong các nút quy trình trưởng thành (28nm và hơn), phục vụ cho các nhà sản xuất chip bộ nhớ và logic không yêu cầu công nghệ EUV tiên tiến nhất. Nikon, đặc biệt, đã tập trung vào lithography ngâm và tiếp tục đổi mới trong độ chính xác của lớp phủ và thông lượng, trong khi Canon tận dụng chuyên môn của mình trong công nghệ i-line và KrF lithography cho các ứng dụng đặc biệt và di sản.

Các công ty mới nổi từ Trung Quốc, chẳng hạn như SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.), đang thực hiện các khoản đầu tư chiến lược để địa phương hóa sản xuất thiết bị photolithography. Trong khi các hệ thống của họ hiện tại vẫn thua kém về độ phân giải và thông lượng so với các nhà lãnh đạo đã được thiết lập, sự hỗ trợ của chính phủ và chi tiêu R&D tăng lên dự kiến sẽ tăng tốc tiến bộ công nghệ của họ, đặc biệt trong các phân khúc thị trường trung và thấp.

Động lực cạnh tranh còn chịu ảnh hưởng từ các ràng buộc chuỗi cung ứng, quy định xuất khẩu và căng thẳng địa chính trị, đặc biệt giữa Mỹ, Trung Quốc và EU. Những yếu tố này ảnh hưởng không chỉ đến khả năng tiếp cận thị trường mà còn đến tốc độ đổi mới và hợp tác trong ngành. Kết quả là, các công ty hàng đầu đang đầu tư mạnh vào độ bền của chuỗi cung ứng và các quan hệ đối tác chiến lược để đảm bảo vị thế của họ trên thị trường toàn cầu.

Dự báo tăng trưởng thị trường và các dự đoán doanh thu (2025–2030)

Thị trường sản xuất thiết bị photolithography được dự đoán sẽ tăng trưởng mạnh mẽ vào năm 2025, được thúc đẩy bởi nhu cầu gia tăng cho các thiết bị bán dẫn tiên tiến và sự chuyển tiếp đang diễn ra sang các nút quy trình nhỏ hơn. Theo dự báo của Gartner, ngành công nghiệp bán dẫn toàn cầu dự kiến sẽ phục hồi vào năm 2024 và tăng tốc vào năm 2025, thúc đẩy các khoản chi tiêu vốn cho các công cụ lithography thế hệ tiếp theo. Thị trường thiết bị photolithography, bao gồm cả hệ thống DUV và EUV, dự kiến sẽ đạt khoảng 18-20 tỷ đô la doanh thu vào năm 2025, tăng từ mức 16 tỷ đô la dự kiến vào năm 2024, phản ánh tỷ lệ tăng trưởng hàng năm (CAGR) từ 10-12%.

Các động lực chính cho sự phát triển này bao gồm sự tăng tốc của các công nghệ quy trình 3nm và 2nm bởi các nhà máy hàng đầu và các nhà sản xuất thiết bị tích hợp (IDM), cũng như sự tăng cường đầu tư vào các nhà máy sản xuất mới (fabs) ở Châu Á, Bắc Mỹ và Châu Âu. ASML Holding, nhà cung cấp dẫn đầu của hệ thống lithography EUV, đã báo cáo một tồn đọng đơn hàng mạnh mẽ kéo dài đến năm 2025, với mong đợi có các đợt giao hàng kỷ lục khi các nhà chế tạo chip như TSMC, Samsung Electronics và Intel Corporation mở rộng năng lực nút tiên tiến của họ.

Các dự đoán doanh thu khu vực cho thấy Châu Á-Thái Bình Dương sẽ tiếp tục chiếm tỷ lệ lớn nhất trong nhu cầu thiết bị photolithography, dẫn đầu bởi Trung Quốc, Đài Loan và Hàn Quốc. Tuy nhiên, Hoa Kỳ và Châu Âu được dự đoán sẽ thấy tỷ lệ tăng trưởng trên mức trung bình vào năm 2025, được hỗ trợ bởi các ưu đãi của chính phủ và các khoản đầu tư chiến lược vào sản xuất bán dẫn trong nước theo các sáng kiến như Đạo luật CHIPS của Mỹ và Đạo luật Chips châu Âu (Hiệp hội ngành công nghiệp bán dẫn).

Tóm lại, năm 2025 được dự kiến ​​sẽ là một năm quan trọng cho các nhà sản xuất thiết bị photolithography, với sự phát triển doanh thu được đảm bảo bởi việc chuyển giao công nghệ, mở rộng năng lực và các nỗ lực địa chính trị nhằm địa phương hóa các chuỗi cung ứng bán dẫn. Cảnh quan cạnh tranh sẽ vẫn tập trung, với ASML Holding duy trì vị thế lãnh đạo trong lĩnh vực EUV, trong khi Nikon Corporation và Canon Inc. tiếp tục phục vụ phân khúc DUV. Triển vọng thị trường cho năm 2025 cho thấy động lực mạnh mẽ, mở đường cho sự mở rộng hơn nữa cho đến năm 2030.

Phân tích thị trường khu vực: Bắc Mỹ, Châu Âu, Châu Á-Thái Bình Dương và các khu vực còn lại của thế giới

Thị trường sản xuất thiết bị photolithography toàn cầu vào năm 2025 được đặc trưng bởi các động lực khu vực khác nhau, chịu ảnh hưởng từ sự lãnh đạo công nghệ, tích hợp chuỗi cung ứng và chính sách chính phủ. Bốn khu vực chính—Bắc Mỹ, Châu Âu, Châu Á-Thái Bình Dương và các khu vực còn lại của thế giới—mỗi khu vực đóng vai trò độc đáo trong chuỗi giá trị của ngành công nghiệp.

Bắc Mỹ vẫn là một trung tâm quan trọng cho đổi mới photolithography, được thúc đẩy bởi sự hiện diện của các nhà sản xuất bán dẫn hàng đầu và các cơ sở nghiên cứu. Hoa Kỳ, đặc biệt, hưởng lợi từ các khoản đầu tư R&D mạnh mẽ và một hệ sinh thái nhà cung cấp và người sử dụng cuối vững mạnh. Tuy nhiên, năng lực sản xuất của khu vực này tương đối hạn chế, với hầu hết các công cụ photolithography tiên tiến được nhập khẩu từ Châu Âu và Châu Á. Các sáng kiến chính sách gần đây, chẳng hạn như Đạo luật CHIPS, dự kiến sẽ củng cố sản xuất trong nước và giảm sự phụ thuộc vào các nhà cung cấp nước ngoài bằng cách khuyến khích sản xuất tại chỗ và phát triển công nghệ (Hiệp hội ngành công nghiệp bán dẫn).

Châu Âu là tâm điểm của sản xuất thiết bị photolithography, chủ yếu do sự thống trị của ASML Holding, nhà cung cấp duy nhất trên thế giới của các hệ thống lithography cực tím cực kỳ (EUV). Công ty có trụ sở tại Hà Lan đã sở hữu vị thế công nghệ tiên phong, làm nền tảng cho tầm quan trọng chiến lược của Châu Âu trong chuỗi cung ứng toàn cầu. Các chính phủ Châu Âu tiếp tục hỗ trợ lĩnh vực này thông qua việc tài trợ cho sản xuất tiên tiến và các quy định xuất khẩu, đặc biệt là để đối phó với các căng thẳng địa chính trị và nhu cầu bảo vệ các công nghệ quan trọng (Ủy ban Châu Âu).

Châu Á-Thái Bình Dương là thị trường lớn nhất và phát triển nhanh nhất cho thiết bị photolithography, chiếm hơn 60% năng lực chế tạo bán dẫn toàn cầu. Các quốc gia như Đài Loan, Hàn Quốc, Nhật Bản và ngày càng cả Trung Quốc, là những người mua chính và trong một số trường hợp, những nhà sản xuất thiết bị photolithography mới nổi. TSMC của Đài Loan và Samsung Electronics của Hàn Quốc thúc đẩy nhu cầu đối với thiết bị tiên tiến, trong khi Nikon và Canon của Nhật Bản vẫn là các nhà cung cấp quan trọng cho các hệ thống DUV. Trung Quốc đang đầu tư mạnh vào khả năng trong nước, nhưng vẫn phụ thuộc vào công nghệ nước ngoài đối với các nút tiên tiến (SEMI).

• Các khu vực còn lại của thế giới bao gồm các thị trường mới nổi ở Trung Đông, Mỹ Latinh và một số khu vực của Đông Nam Á. Mặc dù những khu vực này hiện có năng lực sản xuất hạn chế, các sáng kiến của chính phủ và đầu tư trực tiếp nước ngoài đang dần nuôi dưỡng các hệ sinh thái bán dẫn địa phương. Tuy nhiên, ảnh hưởng của chúng đến sản xuất thiết bị photolithography vẫn còn nhỏ trong năm 2025 (Gartner).

Triển vọng tương lai: Các ứng dụng mới nổi và sự tiến hóa của ngành công nghiệp

Triển vọng tương lai cho ngành sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 sẽ được định hình bởi sự phát triển công nghệ nhanh chóng, các yêu cầu ngày càng phát triển của ngành công nghiệp bán dẫn và sự xuất hiện của các lĩnh vực ứng dụng mới. Khi ngành công nghiệp bán dẫn tiến tới các nút quy trình dưới 2nm, nhu cầu về các công cụ photolithography tiên tiến—đặc biệt là các hệ thống EUV và EUV có độ mở số cao—dự kiến sẽ gia tăng. Các nhà sản xuất hàng đầu đang đầu tư mạnh vào R&D để giải quyết các thách thức kỹ thuật liên quan đến những hệ thống thế hệ tiếp theo này, chẳng hạn như độ phân giải cải thiện, độ chính xác của lớp phủ và thông lượng.

Các ứng dụng mới nổi trong trí tuệ nhân tạo (AI), điện toán hiệu suất cao (HPC), truyền thông 5G/6G và điện tử ô tô đang thúc đẩy nhu cầu về các mạch tích hợp phức tạp hơn, điều này lại đòi hỏi các giải pháp photolithography tiên tiến. Sự bùng nổ của các bộ tăng tốc AI và các thiết bị điện toán biên dự kiến sẽ thúc đẩy nhu cầu về các chip có mật độ bóng bán dẫn cao hơn và tiêu thụ điện năng thấp hơn, càng nhấn mạnh tầm quan trọng của thiết bị lithography tiên tiến.

Sự tiến hóa của ngành cũng được đánh dấu bằng sự đa dạng hóa địa lý trong sản xuất bán dẫn. Các chính phủ ở Hoa Kỳ, Châu Âu và Châu Á đang thực hiện các chính sách và ưu đãi để địa phương hóa sản xuất chip, điều này sẽ kích thích các khoản đầu tư mới vào thiết bị photolithography ở nhiều khu vực khác nhau. Xu hướng này dự kiến sẽ có lợi cho các nhà sản xuấtEstablished và tạo ra cơ hội cho các doanh nghiệp mới chuyên về công nghệ ngách hoặc thiết bị hỗ trợ.

Một xu hướng quan trọng khác là sự tích hợp của các hệ thống đo đạc và kiểm tra tiên tiến với các công cụ photolithography, cho phép kiểm soát quy trình như thời gian thực và phát hiện khuyết tật. Sự tích hợp này rất quan trọng để duy trì tỷ lệ năng suất cao ở các nút tiên tiến và dự kiến sẽ trở thành một tính năng tiêu chuẩn trong các dây chuyền sản xuất thế hệ tiếp theo.

• Theo ASML Holding, nhà cung cấp duy nhất của các hệ thống lithography EUV, nhu cầu về các công cụ EUV và High-NA EUV dự kiến sẽ vượt quá nguồn cung cho đến năm 2025, được thúc đẩy bởi các khách hàng chế tạo và logic tiên tiến.
• SEMI dự đoán rằng doanh số thiết bị bán dẫn toàn cầu, bao gồm cả photolithography, sẽ đạt các mức cao mới vào năm 2025, được hỗ trợ bởi việc mở rộng năng lực và nâng cấp công nghệ.
• Gartner nhấn mạnh rằng sự chuyển tiếp đến các nút tiên tiến sẽ là động lực tăng trưởng chính cho các nhà sản xuất thiết bị photolithography, với các khoản chi tiêu vốn đáng kể được lên kế hoạch bởi các nhà máy lớn.

Tóm lại, ngành sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 đang chuẩn bị cho sự tăng trưởng mạnh mẽ, dựa trên sự đổi mới công nghệ, các ứng dụng cuối mở rộng và các chuyển biến chiến lược trong ngành hướng tới sự khu vực hóa và tích hợp quy trình.

Thách thức, rủi ro và cơ hội chiến lược

Ngành sản xuất thiết bị photolithography đang đối mặt với một bức tranh phức tạp của các thách thức và rủi ro vào năm 2025, nhưng những yếu tố này cũng mở ra những cơ hội chiến lược đáng kể. Ngành này đặc trưng bởi mức độ tiêu tốn vốn cao, sự phát triển công nghệ nhanh chóng và một hệ sinh thái cung cấp tập trung, tất cả đều định hình động lực cạnh tranh và triển vọng tăng trưởng trong tương lai.

Một trong những thách thức hàng đầu là chi phí và độ phức tạp đang gia tăng của việc phát triển các hệ thống photolithography thế hệ tiếp theo, đặc biệt là lithography cực tím cực kỳ (EUV). Đầu tư R&D cần thiết cho các công cụ EUV có thể vượt quá hàng tỷ đô la, với ASML Holding NV—nhà cung cấp duy nhất của các hệ thống EUV—báo cáo rằng các máy móc mới nhất của họ có giá trên 200 triệu đô la mỗi chiếc. Rào cản gia nhập cao này hạn chế cạnh tranh nhưng cũng gây ra rủi ro tài chính đáng kể cho các nhà sản xuất nếu các dự đoán về nhu cầu thay đổi hoặc nếu các trở ngại kỹ thuật trì hoãn việc ra mắt sản phẩm.

Các điểm yếu trong chuỗi cung ứng là một rủi ro quan trọng khác. Hệ sinh thái photolithography phụ thuộc vào một số nhà cung cấp chuyên biệt cho các thành phần chính như nguồn sáng, quang học và nhựa nhạy sáng. Những gián đoạn—dù từ căng thẳng địa chính trị, thiên tai hay các hạn chế thương mại—có thể có tác động lớn. Ví dụ, sự cạnh tranh công nghệ giữa Mỹ và Trung Quốc đang dẫn đến các quy định xuất khẩu cho thiết bị photolithography tiên tiến, ảnh hưởng đến khả năng tiếp cận thị trường và thúc đẩy một số nhà sản xuất phải đa dạng hóa chuỗi cung ứng hoặc đầu tư vào khả năng sản xuất trong nước (SEMI).

Sự thiếu hụt tài năng trong các lĩnh vực rất chuyên biệt như quang học, kỹ thuật chính xác và phát triển phần mềm càng tạo áp lực lên sự tăng trưởng. Nhu cầu của ngành về chuyên môn đa ngành khiến việc tuyển dụng và giữ chân trở thành một thách thức thường trực, đặc biệt khi nhu cầu đối với các chip tiên tiến gia tăng trong các lĩnh vực như AI, ô tô và 5G (Gartner).

Bất chấp những rủi ro này, có rất nhiều cơ hội chiến lược. Xu hướng toàn cầu về tự cung tự cấp bán dẫn—do các ưu đãi của chính phủ ở Mỹ, EU và Châu Á thúc đẩy—mở ra các thị trường mới cho các nhà sản xuất thiết bị photolithography. Các công ty có thể đổi mới trong các lĩnh vực như EUV có độ mở số cao, hệ thống DUV tiết kiệm chi phí hoặc các công cụ đo lường tiên tiến có vị thế tốt để thu hút thị phần trong cả thị trường trưởng thành và mới nổi. Ngoài ra, các quan hệ đối tác và liên doanh với các nhà máy và viện nghiên cứu có thể thúc đẩy phát triển công nghệ và giảm rủi ro R&D (TSMC).

Tóm lại, trong khi ngành sản xuất thiết bị photolithography vào năm 2025 đối mặt với những thách thức to lớn, việc quản lý rủi ro chủ động và đổi mới chiến lược đang mở ra các con đường cho sự tăng trưởng bền vững và lợi thế cạnh tranh.

Nguồn & Tài liệu tham khảo

• ASML Holding
• Canon Inc.
• Nikon Corporation
• imec
• SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.)
• Hiệp hội ngành công nghiệp bán dẫn
• Ủy ban Châu Âu